前两篇文章中，螺杆真空泵厂家珂勒曦为大家介绍了低真空与中真空环境下的真空泵真空工艺应用。本片文章将继续为您介绍高真空环境中的真空工艺应用。

高真空环境是指压力在10^-1～10^-5Pa之间的真空环境。高真空状态下，分子间的相互碰撞开始变得极少，同时分子与器壁之间的碰撞频繁。而且此时分体分子密度变得很小。

高真空环境中，部分典型的真空泵真空工艺应用

这种状态下，真空泵真空工艺原理主要通过利用气体分子密度小、任何物质与残余气体分子的化学作用微弱的特点来实现真空冶金、真空镀膜及真空器件的生产。

在生产实际中，高真空状态下的真空泵真空工艺应用主要包括：

1、稀有金属、超纯金属和合金、半导体材料的真空熔炼与精制；常用结构材料的真空还原冶金。

2、纯金属的真空蒸馏精炼；放射性同位素蒸发。

3、难熔金属的真空烧结。

4、半导体材料的真空提纯和晶体制备。

5、高温金相显微镜及高温材料试验设备的制造。

6、真空镀膜、离子注入、膜刻蚀等表面改性。

7、电真空工业的光电管、离子管、电子源管、电子束管、电子衍射仪、电子显微镜、X光显微镜、各种粒子加速器、能谱仪、核辐射谱仪、中子管、气体激光器的制造。

8、电子束除气、电子束焊接、区域熔炼、电子束加工。

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